Werner V. Brandt
Director/Equipment Development
SPIE Involvement:
Author
Publications (7)

Proceedings Article | 11 October 2016 Paper
P. Soffitta, R. Bellazzini, E. Bozzo, V. Burwitz, A. Castro-Tirado, E. Costa, T. Courvoisier, H. Feng, S. Gburek, R. Goosmann, V. Karas, G. Matt, F. Muleri, K. Nandra, M. Pearce, J. Poutanen, V. Reglero, D. Sabau Maria, A. Santangelo, G. Tagliaferri, C. Tenzer, J. Vink, M. Weisskopf, S. Zane, I. Agudo, A. Antonelli, P. Attina, L. Baldini, A. Bykov, R. Carpentiero, E. Cavazzuti, E. Churazov, E. Del Monte, D. De Martino, I. Donnarumma, V. Doroshenko, Y. Evangelista, I. Ferreira, E. Gallo, N. Grosso, P. Kaaret, E. Kuulkers, J. Laranaga, L. Latronico, D. Lumb, J. Macian, J. Malzac, F. Marin, E. Massaro, M. Minuti, C. Mundell, J. U. Ness, T. Oosterbroek, S. Paltani, G. Pareschi, R. Perna, P.-O. Petrucci, H. B. Pinazo, M. Pinchera, J. P. Rodriguez, M. Roncadelli, A. Santovincenzo, S. Sazonov, C. Sgro, D. Spiga, J. Svoboda, C. Theobald, T. Theodorou, R. Turolla, E. Wilhelmi de Ona, B. Winter, A. M. Akbar, H. Allan, R. Aloisio, D. Altamirano, L. Amati, E. Amato, E. Angelakis, J. Arezu, J.-L. Atteia, M. Axelsson, M. Bachetti, L. Ballo, S. Balman, R. Bandiera, X. Barcons, S. Basso, A. Baykal, W. Becker, E. Behar, B. Beheshtipour, R. Belmont, E. Berger, F. Bernardini, S. Bianchi, G. Bisnovatyi-Kogan, P. Blasi, P. Blay, A. Bodaghee, M. Boer, M. Boettcher, S. Bogdanov, I. Bombaci, R. Bonino, J. Braga, W. Brandt, A. Brez, N. Bucciantini, L. Burderi, I. Caiazzo, R. Campana, S. Campana, F. Capitanio, M. Cappi, M. Cardillo, P. Casella, O. Catmabacak, B. Cenko, P. Cerda-Duran, C. Cerruti, S. Chaty, M. Chauvin, Y. Chen, J. Chenevez, M. Chernyakova, C. C. Cheung, D. Christodoulou, P. Connell, R. Corbet, F. Coti Zelati, S. Covino, W. Cui, G. Cusumano, A. D’Ai, F. D’Ammando, M. Dadina, Z. Dai, A. De Rosa, L. de Ruvo, N. Degenaar, M. Del Santo, L. Del Zanna, G. Dewangan, S. Di Cosimo, N. Di Lalla, G. Di Persio, T. Di Salvo, T. Dias, C. Done, M. Dovciak, G. Doyle, L. Ducci, R. Elsner, T. Enoto, J. Escada, P. Esposito, C. Eyles, S. Fabiani, M. Falanga, S. Falocco, Y. Fan, R. Fender, M. Feroci, C. Ferrigno, W. Forman, L. Foschini, C. Fragile, F. Fuerst, Y. Fujita, J. L. Gasent-Blesa, J. Gelfand, B. Gendre, G. Ghirlanda, G. Ghisellini, M. Giroletti, D. Goetz, E. Gogus, J.-L. Gomez, D. Gonzalez, R. Gonzalez-Riestra, E. Gotthelf, L. Gou, P. Grandi, V. Grinberg, F. Grise, C. Guidorzi, N. Gurlebeck, T. Guver, D. Haggard, M. Hardcastle, D. Hartmann, C. Haswell, A. Heger, M. Hernanz, J. Heyl, L. Ho, J. Hoormann, J. Horak, J. Huovelin, D. Huppenkothen, R. Iaria, C. Inam Sitki, A. Ingram, G. Israel, L. Izzo, M. Burgess, M. Jackson, L. Ji, J. Jiang, T. Johannsen, C. Jones, S. Jorstad, J. J. E. Kajava, M. Kalamkar, E. Kalemci, T. Kallman, A. Kamble, F. Kislat, M. Kiss, D. Klochkov, E. Koerding, M. Kolehmainen, K. Koljonen, S. Komossa, A. Kong, S. Korpela, M. Kowalinski, H. Krawczynski, I. Kreykenbohm, M. Kuss, D. Lai, M. Lan, J. Larsson, S. Laycock, D. Lazzati, D. Leahy, H. Li, J. Li, L.-X. Li, T. Li, Z. Li, M. Linares, M. Lister, H. Liu, G. Lodato, A. Lohfink, F. Longo, G. Luna, A. Lutovinov, S. Mahmoodifar, J. Maia, V. Mainieri, C. Maitra, D. Maitra, A. Majczyna, S. Maldera, D. Malyshev, A. Manfreda, A. Manousakis, R. Manuel, R. Margutti, A. Marinucci, S. Markoff, A. Marscher, H. Marshall, F. Massaro, M. McLaughlin, G. Medina-Tanco, M. Mehdipour, M. Middleton, R. Mignani, P. Mimica, T. Mineo, B. Mingo, G. Miniutti, S. M. Mirac, G. Morlino, A. Motlagh, S. Motta, A. Mushtukov, S. Nagataki, F. Nardini, J. Nattila, G. Navarro, B. Negri, Matteo Negro, S. Nenonen, V. Neustroev, F. Nicastro, A. Norton, A. Nucita, P. O’Brien, S. O’Dell, H. Odaka, B. Olmi, N. Omodei, M. Orienti, M. Orlandini, J. Osborne, L. Pacciani, V. Paliya, I. Papadakis, A. Papitto, Z. Paragi, P. Pascal, B. Paul, L. Pavan, A. Pellizzoni, E. Perinati, M. Pesce-Rollins, E. Piconcelli, A. Pili, M. Pilia, M. Pohl, G. Ponti, D. Porquet, A. Possenti, K. Postnov, I. Prandoni, N. Produit, G. Puehlhofer, B. Ramsey, M. Razzano, N. Rea, P. Reig, K. Reinsch, T. Reiprich, M. Reynolds, G. Risaliti, T. Roberts, J. Rodriguez, M. Rossi, S. Rosswog, A. Rozanska, A. Rubini, B. Rudak, D. Russell, F. Ryde, S. Sabatini, G. Sala, M. Salvati, M. Sasaki, T. Savolainen, R. Saxton, S. Scaringi, K. Schawinski, N. Schulz, A. Schwope, P. Severgnini, M. Sharon, A Shaw, A. Shearer, X. Shesheng, I. -C. Shih, K. Silva, R. Silva, E. Silver, A. Smale, F. Spada, G. Spandre, A. Stamerra, B. Stappers, S. Starrfield, L. Stawarz, N. Stergioulas, A. Stevens, H. Stiele, V. Suleimanov, R. Sunyaev, A. Slowikowska, F. Tamborra, F. Tavecchio, R. Taverna, A. Tiengo, L. Tolos, F. Tombesi, J. Tomsick, H. Tong, G. Torok, D. Torres, A. Tortosa, A. Tramacere, V. Trimble, G. Trinchieri, S. Tsygankov, M. Tuerler, S. Turriziani, F. Ursini, P. Uttley, P. Varniere, F. Vincent, E. Vurgun, C. Wang, Z. Wang, A. Watts, J. Wheeler, K. Wiersema, R. Wijnands, J. Wilms, A. Wolter, K. Wood, K. Wu, X. Wu, W. Xiangyu, F. Xie, R. Xu, S.-P. Yan, J. Yang, W. Yu, F. Yuan, A. Zajczyk, D. Zanetti, R. Zanin, C. Zanni, L. Zappacosta, A. Zdziarski, A. Zech, H. Zhang, S. Zhang, W. Zhang, A. Zoghbi
Proc. SPIE. 9905, Space Telescopes and Instrumentation 2016: Ultraviolet to Gamma Ray
KEYWORDS: Observatories, Mirrors, Astronomy, X-ray optics, Modulation, Polarization, Sensors, X-rays, Physics, Polarimetry

Proceedings Article | 11 May 2009 Paper
Proc. SPIE. 7379, Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XVI
KEYWORDS: Carbon dioxide, Aerosols, Control systems, Atomic force microscopy, Personal digital assistants, Photomasks, SRAF, Atmospheric particles, Cryogenics, Mask cleaning

Proceedings Article | 5 November 2005 Paper
Proc. SPIE. 5992, 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
KEYWORDS: Aerosols, Air contamination, Particles, Silicon, Inspection, Photomasks, Semiconducting wafers, Carbon monoxide, Atmospheric particles, Cryogenics

Proceedings Article | 28 June 2005 Paper
Proc. SPIE. 5853, Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII
KEYWORDS: Carbon dioxide, Aerosols, Air contamination, Particles, Silicon, Photomasks, Semiconducting wafers, Atmospheric particles, Atmospheric modeling, Cryogenics

Proceedings Article | 11 March 2002 Paper
Proc. SPIE. 4562, 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
KEYWORDS: Safety, Contamination, Metals, Particles, Photoresist materials, Solids, Photomasks, Carbon monoxide, Natural surfaces, Liquids

Showing 5 of 7 publications
SIGN IN TO:
  • View contact details

UPDATE YOUR PROFILE
Is this your profile? Update it now.
Don’t have a profile and want one?

Advertisement
Advertisement
Back to Top